武汉工程大学

本实验室成立于1998年，为湖北省教育厅、湖北省科技厅和武汉工程大学共建省级重点实验室。本实验室的主要研究方向为等离子体技术及其在材料中的应用。在等离子体技术方面，主要进行多种等离子体装置的研制，包括微波等离子体化学气相沉积装置、微波电子回旋共振等离子体化学 气相沉积装置、射频等离子体化学气相沉积装置、常压等离子体化学气相沉积装置以及微波源的研制工作。在等离子体技术应用方面，主要进行新 材料的制备以及材料表面处理研究，其中以膜材料及纳米材料的制备为主，包括金刚石膜的制备，SiO2膜的制备、ZnO膜的制备以及纳米碳管的制备研究，同时进行了纳米材料等离子体改性、纺织品改性、高聚物改性以及等离子体刻蚀研究。 实验室建筑面积600余平方米，固定资产400余万元， 拥有多种功率的微波等离子体化学气相沉积装置、微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积装置、热丝化学气相沉积装置、大功率微波烧结炉、等离子体刻蚀机、磁控溅射镀膜机、超音速氧喷枪、X射线衍射仪等。实验室现有固定研究人员14名，全部具有博士学位，其中教授10名，副教授3名，高级工程师1名。实验室重视科研成果的开发，坚持走产学研结合的道路，近三年来共承担了国家计委产业化示范工程项目、国家 863纳米专项项目、国家自然科学基金、湖北省重大科技攻关专项项目、武汉市科技攻关项目等纵向项目20余项，横向项目10余项。