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2014年开展了多晶硅铸锭涂层用高纯Si3N4粉的工艺研究，目前完成大量批次的工艺试验，确立了工艺路线、原料条件、氮化工艺参数（温度、时间和气氛条件等），亟待解决、攻关难点：产品相态控制以及产品杂质的稳定控制。
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