[00324170]一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置及其使用方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201310729760.1

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：厦门立德软件公司

所在地：浙江

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明涉及薄膜材料技术领域，尤其涉及一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置，包括真空室、磁控靶、工件架和旋转支座，磁控靶包括高功率脉冲磁控溅射靶和脉冲直流磁控靶，固定在真空室内，呈九十度对向设置，其磁场布局方式相反，形成闭合场；每个磁控靶的磁场布局方式都为非平衡磁场。本发明通过以上结构的实施方式，具有较好的磁场分布及离子镀效果，能够方便沉积出膜层结合力好、涂层致密、力学性能好、化学成分精确可控的优质涂层用于高速切削刀具。

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